Elektronenstrahllithographie und SEM-Bildgebung

Die Raith PIONEER Systeme sind hochpräzise Elektronenstrahllithographie (EBL)-Instrumente mit integrierter Rasterelektronenmikroskopie (SEM) für hochauflösende Nanostrukturierung und detaillierte Materialanalysen. Das Elektronenstrahllithographie-Rasterelektronenmikroskop-Hybridsystem (ESL-REM) im LNQE-Forschungsbau hat eine maximale Beschleunigungsspannung von 30 kV und als Elektronenemitter eine thermische Feldemission (TFE) Schottky-Kathode. Gerätetyp: Pioneer Two von Fa. Raith. Strahlstrom: 5pA – 20 nA, Strahldurchmesser: kleiner 1,6 nm. Nanolithographie-Auflösung: 8 nm. Schreibgeschwindigkeit: 6 MHz. Stitching- und Overlayer-Genauigkeit: 50 nm. Stagebereich: 50 x 50 x 25 mm. Inlens Detektor, Doppeldetektor für sekundäre und rückgestreute Elektronen. EDX–Detektor (Bruker QUANTAX 200) für Elemente zwischen Z=5 und Z=95. Stage mit 360°-Rotation und 0 – 90° Verkippung