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Lithografie, UV Kontakt und Proximity-Aligner Elementhalbleiter

Ausstattung/Einrichtung: Gerät

    Details zu Ausstattungen/Einrichtungen

    Beschreibung

    UV Kontakt- und Proximity-Belichter für runde Wafer (Silizium und Germanium) bis 100 mm Durchmesser. Maskengröße 150*150 mm2 quadratisch, minimale Linienbreite 900 nm (SÜSS MA 150 und MA 6)