Plasma CVD Oxford Plasmalab 90

Oliver Kerker (Gerätemanagement)

Laboratorium für Nano- und Quantenengineering (LNQE)

Ausstattung/Einrichtung: Gerät

Beschreibung

Plasma-CVD für runde Wafer bis 100 mm Durchmesser, Herstellung von Oxiden, Nitriden, Poly und Germanium, Substrattemperatur bis 400 °C (OXFORD PLASMALAB 90)

Kontaktinformationen

Name	Oliver Kerker

Plasma CVD Oxford Plasmalab 90

Details zu Ausstattungen/Einrichtungen

Beschreibung

Kontaktinformationen