Abstract
We produce uniform macroporous double-layers on 6 inch n-type silicon substrates by electrochemical etching under rear side illumination in a hydrofluoric acid (HF)-based electrolyte. The etched area is circular with a diameter of 13 cm. We demonstrate the detachment of 20 μm thick free-standing macroporous silicon layers with an area of 8 × 8 cm2.
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Titel des Sammelwerks | 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference Honolulu, HI, June 20-25, 2010 |
| Untertitel | Conference Proceedings |
| Herausgeber (Verlag) | IEEE |
| Seiten | 3122-3124 |
| Seitenumfang | 3 |
| ISBN (Print) | 9781424458912 |
| DOIs | |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2010 |
| Veranstaltung | 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference: PVSC 2010 - Honolulu, HI, USA / Vereinigte Staaten Dauer: 20 Juni 2010 → 25 Juni 2010 Konferenznummer: 35 |
Publikationsreihe
| Name | Conference Record of the IEEE Photovoltaic Specialists Conference |
|---|---|
| ISSN (Print) | 0160-8371 |
Konferenz
| Konferenz | 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference |
|---|---|
| Kurztitel | PVSC 2010 |
| Land/Gebiet | USA / Vereinigte Staaten |
| Ort | Honolulu, HI |
| Zeitraum | 20 Juni 2010 → 25 Juni 2010 |
ASJC Scopus Sachgebiete
- Steuerungs- und Systemtechnik
- Wirtschaftsingenieurwesen und Fertigungstechnik
- Elektrotechnik und Elektronik
Dieses zitieren
- APA
- Author
- BIBTEX
- Harvard
- Standard
- RIS
- Vancouver