Equipments Details
Description
Plasma-CVD für runde Wafer bis 100 mm Durchmesser, Herstellung von Oxiden, Nitriden, Poly und Germanium, Substrattemperatur bis 400 °C (OXFORD PLASMALAB 90)
Plasma CVD Oxford Plasmalab 90
- Oliver Kerker (Equipment management)
Facility/equipment: Research Instrumentation